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Intel torna-se a primeira empresa a produzir chips em grande volume com litografia High NA EUV da ASML
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A ASML anunciou a 15 de julho de 2026 que a Intel Foundry entrou em produção de grande volume de processadores Intel Core Ultra Série 3, com nome de código Panther Lake, usando litografia High NA EUV em camadas do nó Intel 18A. É a primeira vez que um produto lógico é expedido em grande volume com esta tecnologia.
A ASML anunciou esta quarta-feira que a Intel Foundry passou a utilizar a tecnologia de litografia High NA EUV na produção em grande volume de uma parte dos processadores Intel Core Ultra Série 3, fabricados no nó de processo Intel 18A. Segundo a empresa neerlandesa, trata-se da primeira vez na indústria que um produto lógico é expedido em grande volume com recurso a esta tecnologia.
De acordo com o comunicado emitido a partir de Veldhoven, camadas específicas do processo Intel 18A estão agora duplamente qualificadas em High NA EUV nas instalações do Oregon, com produto a ser entregue a clientes com rendimentos equiparados aos da plataforma NXE, a geração anterior de equipamentos EUV da ASML. Os processadores em causa têm o nome de código Panther Lake.
Uma década de desenvolvimento
A litografia ultravioleta extrema de alta abertura numérica, ou High NA EUV, foi desenvolvida pela ASML para permitir padrões mais precisos no fabrico de semicondutores avançados. Em 2024, a ASML e a Intel concluíram a integração do primeiro sistema comercial de High NA EUV da indústria no centro de investigação da fabricante norte-americana em Hillsboro, no Oregon. A Intel Foundry foi também a primeira empresa a instalar e a validar a segunda geração do equipamento, o TWINSCAN EXE:5200B, que aumenta a produção e a precisão de sobreposição face ao modelo EXE:5000.
"Com maior resolução e melhor controlo de processo, a introdução do High NA EUV marca um desenvolvimento substancial na litografia de semicondutores", afirmou Christophe Fouquet, presidente e diretor executivo da ASML, citado no comunicado.
Naga Chandrasekaran, vice-presidente executivo e diretor-geral da Intel Foundry, indicou que a qualificação da opção High NA EUV em camadas selecionadas do Intel 18A permite que a frota de equipamentos já instalada ofereça "maior produção" aos clientes, enquanto são desenvolvidas opções para nós futuros.
O anúncio surgiu no mesmo dia em que a ASML apresentou vendas líquidas de 9,3 mil milhões de euros e lucro líquido de 2,9 mil milhões de euros no segundo trimestre, tendo revisto em alta as previsões para 2026.
Perguntas frequentes
O que é a litografia High NA EUV?
É a litografia ultravioleta extrema de alta abertura numérica, desenvolvida pela ASML para permitir padrões mais precisos no fabrico de semicondutores avançados. Oferece maior resolução e melhor controlo de processo do que a geração anterior NXE.
Que produtos da Intel usam High NA EUV?
Uma parte dos processadores Intel Core Ultra Série 3, com nome de código Panther Lake, fabricados no nó de processo Intel 18A. Camadas específicas do processo estão duplamente qualificadas em High NA EUV nas instalações do Oregon.
Desde quando colaboram a Intel e a ASML no High NA EUV?
Em 2024, as duas empresas concluíram a integração do primeiro sistema comercial de High NA EUV da indústria no centro de investigação da Intel em Hillsboro, no Oregon. A Intel foi também a primeira a validar a segunda geração do equipamento, o TWINSCAN EXE:5200B.
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